欣源科技(北京)有限公司

      主營(yíng):微波發(fā)生器微波電源 2.45GHz 915MHz
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      [供應(yīng)]EBL電子束
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      • 產(chǎn)品產(chǎn)地:北京市海淀區(qū)信息路甲28號(hào)D座06A-6331
      • 產(chǎn)品品牌:欣源科技(北京)
      • 包裝規(guī)格:無
      • 產(chǎn)品數(shù)量:9999
      • 計(jì)量單位:套
      • 產(chǎn)品單價(jià):7000000
      • 更新日期:2020-04-07 15:30:29
      • 有效期至:2021-04-07
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      EBL電子束 詳細(xì)信息

      電子束光刻系統(tǒng)EBL(E-BeamLithography)
      電子束直寫系統(tǒng)、電子束曝光系統(tǒng)
      CABL-9000Cseries
      30kV、50kV、90kV、110kV、130kV
      2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸

      納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是最好的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀(jì)先進(jìn)納米科技提供尖端的電子束納米光刻(EBL)系爿統(tǒng),或稱電子束直寫(EBD)、電子束爆光系統(tǒng)。

      型號(hào)包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB。其中CABL-9000C系列最小線寬可達(dá)8nm,最小束斑直徑2nm,套刻精度20nm(mean2σ),拼接精度20nm(mean2σ)。
      技術(shù)參數(shù):
      1.最小線寬:小于10nm(可實(shí)現(xiàn)8nm)
      2.加速電壓:5-50kV
      3.電子束直徑:小于2nm
      4.套刻精度:20nm(mean2σ)
      5.拼接精度:20nm(mean2σ)
      6.加工晶圓尺寸:4-8英寸(standard),12英寸(option)
      7.描電鏡分辨率:小于2nm

      主要特點(diǎn):
      1.采用高亮度和高穩(wěn)定性的TFE電子槍
      2.出色的電子束偏轉(zhuǎn)控制技術(shù)
      3.采用場(chǎng)尺寸調(diào)制技術(shù),電子束定位分辨率(addresssize)可達(dá)0.0012nm
      4.采用軸對(duì)稱圖形書寫技術(shù),圖形偏角分辨率可達(dá)0.01mrad
      5.應(yīng)用領(lǐng)域廣泛,.欣源科技(北京)|||EBL電子束
      ,如微納器件加工,Si/GaAs兼容工藝,欣源科技(北京)有限公司,欣源科技(北京),研究用掩膜制饣造,.欣源科技(北京)|||EBL電子束
      ,納米加工(例如單電子器件、量子器件制作等),高頻電子器件中的混合光刻(Mix&Match),圖形線寬和圖形位移測(cè)量等。
      ==================================

      超高分辨率電子束光刻EBL
      UltrahighResolutionEBLithography(CABL-UHseries)

      納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是最好的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀(jì)先進(jìn)納米科技提供尖端的電子束納米光刻(EBL)系統(tǒng),或稱電子束直寫(EBD)、電子束爆光系統(tǒng)。

      超高分辨率的電子束光刻CABL-UH系列的型號(hào)包括:
      CABL-UH90(90keV)、CABL-UH110(110keV)、CABL-UH130(130keV)

      技術(shù)參數(shù):
      加速電壓:最高130keV
      單段加速能力達(dá)到130keV,盡量減少電子槍的長(zhǎng)度
      超短電子槍長(zhǎng)度,無微放電
      電子束直徑<1.6nm
      最小線寬<7nm
      雙熱控制,實(shí)現(xiàn)超穩(wěn)定直寫能力
      欣源科技SYNERCE獨(dú)家代理日本CRESTEC公司的電子束光刻系統(tǒng),又稱作電子束曝光、電子束直寫、EBL、E-BeamLithography等。
      包括30kV、50kV、90kV、110kV、130kV
      2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸
      如有任何需求和相關(guān)問題,敬請(qǐng)電話或郵件垂詢。

      .欣源科技(北京)|||EBL電子束

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