蘇州市高普超純氣體技術有限公司

      主營:制氮機
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      [供應]高純氮氣純化
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      • 產品產地:江蘇省蘇州市蘇州高新區中峰街161號
      • 產品品牌:高普超純氣體技術
      • 包裝規格:無
      • 產品數量:100
      • 計量單位:套
      • 產品單價:10000
      • 更新日期:2018-12-03 16:20:12
      • 有效期至:2019-12-03
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      高純氮氣純化 詳細信息

      一、碳脫氧型高純氮氣純化設備工藝原理:在碳載型催化劑作用屮下,氮氣中的殘氧和催化劑本身所提供的碳發生反應,而除去氮氣中的氧。反應式為:C+O2=CO2適用范圍:適用于高純度氮氣用戶,特別適用于磁性材料、電子行業等對氧、氫有嚴格要求的工藝。氮氣純度:99.9995%(O2≤5PPm、CO2≤5PPm)??處理氣量:10~500Nm3/h原料氮氣純度:≥99.9%??露水點≤-60℃~70℃產品氮氣出口壓力:0.1~0.6Mpa主要特點:1、穩定性好,氧含量在任何時候都能控制在5PPm以下;2、純度高,高普超純氣體技術,高純氮氣純化,蘇州市高普超純氣體技術有限公司,氮氣純度在99.9995%時能保持長期穩定。3、可靠性好,按照IS09002國際標準進行制造。 二、加氫脫氧型高純氮氣純化設備工藝原理:加氫脫氧裝置以普氮為原料。經加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥、再經過濾除去氨氣中的雜質、水氣和塵埃,獲得高純氮氣。  除氧原理:2H2+O2→2H2O+O↑主要特點:工藝先進——————采用國內領先的高效脫氧催化劑。活性好。無需加熱,活化再生。自動控制——————西門子PLC控制,工作再生自動切換可選的質量流量控制器,自動加氫,比值控制。工作可靠——————采用德國寶得氣動閥,日本理化RKC溫控儀。設計合理——————全封閉的設計,結構緊湊、外型美觀、占地面積少。技術指標:處理氣量:10~500Nm3/h??原料氮氣純度:≥99.5%.產品氨氣純度:99.9995%??O2≤5ppm??H2:微量露水點≤-60℃~70℃??產品氮氣出口壓力:0.1~0.6Mpa三、超高純氣體純化設備▲采用催化和化學吸附工藝聯用,進行氮氣純化,也可用于氬  氣純化。 ▲采用專利催化劑,純化深度高,抗原料氣波動能力強 (200%)。非消耗型填料,使用壽命長。 ▲進口潔凈管道、閥門,Swagelok全自動軌道焊,專利內加熱  拋光反應器,全面保證產品質量。 ▲集約化箱體包裝,全自動運行。  應用領域: ▲高純單晶硅、晶片外延、大規模集成電路、光電生產等電子  行業氣體終端純化。 ▲氣體行業超純氣體生產、分析零點氣制備。 ▲鋼鐵、石化行業氮氣純化。 四、QC系列氫氣純化裝置QC系列氫氣純化裝置是一種以氫氣為原料,通過催化除氧冷卻除水,吸附干燥的氫氣純化設備。它主要由預加熱器、除氧器、冷卻器、冷干機、干燥器、儀表控制系統等部件組成。工作原理  本裝置先將原料氫氣加熱后,使其進入裝有鈀催化劑的除氧器。在除氧器中氫氣中的微量氧與氫氣在催化劑作用下,發生氫氧反應生成水汽O2+2H2→2H2O,再經冷凝除水達到除氧之目的。經除氧、除水后的氫氣再經裝有分子篩的干燥器進行深度吸附干燥處理。從而獲得含水量、含氧量極低的高純氫氣。主要技術性能  處理氣量:0.5~2000Nm3/h  原料氫氣氧含量:≤2%  產品氫氣氧含量:≤1ppm  產品氫氣露水點:≤-60~-70℃  產品氮氣壓力:0.1~1.0Mpa  干燥器切換方式:自動或手動  結構形式:帶面板的框架結構或箱式 主要特點   工藝流程簡單、除氧深度深、露水點低   電氣裝置按隔爆要求設計.采用蒸汽加熱,冰水冷卻,加熱冷卻自動由調閥控制流量。   運行成本廾低,設備投資少   操作方便、維護簡便   可靠性高   主要客戶:德山化工1200Nm3/h                   東岳化工600Nm3/h             亞東石化300Nm3/h            天成氯堿300Nm3/h   五、氬氣純化裝置工作原理:      采用非蒸散型鋯鋁合金16吸氣劑為凈化劑,該吸氣劑主要吸氣相為Zr5AL4、Zr5AL3、Zr3AL2、Zr2AL等多種金屬間化合物,活性高,擴散活化能低,當表面吸附著氣體時,在一定溫度下容易向體內擴散,具有吸氣速率高、吸氣容量大的特點。激活后在最佳吸氣溫度范圍內能有效的吸收O2、N2、CO2、CO、H2、CH4和水汽等,鋯鋁合金不吸收He、Ar、Ne等惰性氣體。所以使用該吸氣劑來純化精制Ar、Ne、He等惰性氣體。   典型用途:   本產品凈化器采用特殊結構,具有接觸面積大,阻力小,凈化效率高,高普超純氣體技術,高純氮氣純化,蘇州市高普超純氣體技術有限公司,熱功損耗小等優點。本裝置可與區熔硅單晶爐配套使用可用于激光器、濺射、半導體生產,氣相色譜儀、特殊燈炮、稀有金屬加工等需要用高純氬氣的生產技術領域。  .高普超純氣體技術///高純氮氣純化

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