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實驗中很多清洗都需要用到超純水設備制取的超純水，那么硅片清洗為什么要用到超純水?
硅片是半導體行業(yè)重要的基體材料。半導體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)過嚴格清洗，清洗的目的在于清除表面污


染雜質(zhì)，包括有機物和無機物，否則微量污染也會導致器件失效。那么硅片清洗為什么要用到超純水呢?
超純水起初是美國科技界為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子


化、反滲透技術或其它適當?shù)某R界精細技術生產(chǎn)出來的水，如今超純水已在芯片、精密儀器、電鍍涂裝、


汽車等領域廣泛應用。
硅片清洗對水質(zhì)要求非常高，電阻率達18兆以上，而超純水能符合標準。超純水是一般工藝很難達到的程


度，水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。超純水設備采用預處理、反滲透技術


、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及


有機物均去除至很低程度的水處理設備。
以上就是硅片清洗為什么要用到超純水的介紹。超純水設備應用范圍在近幾年越來越廣泛，并且具有操


作簡單、水質(zhì)穩(wěn)定、運行成本低等特點，受到各行業(yè)的一致好評。