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[供應(yīng)]供應(yīng)江蘇芯片鈀材清洗超純水設(shè)備|半導(dǎo)體材料高純水設(shè)備
- 產(chǎn)品產(chǎn)地：江蘇
- 產(chǎn)品品牌：
- 包裝規(guī)格：全自動(dòng)
- 產(chǎn)品數(shù)量：100
- 計(jì)量單位：臺(tái)
- 產(chǎn)品單價(jià)：86000
- 更新日期：2020-12-23 14:13:16
- 有效期至：2021-12-23
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供應(yīng)江蘇芯片鈀材清洗超純水設(shè)備|半導(dǎo)體材料高純水設(shè)備
詳細(xì)信息
江蘇芯片鈀材清洗超純水設(shè)備|半導(dǎo)體材料高純水設(shè)備
聯(lián)系電話:18606205762 趙女士QQ:1579724036
芯片封裝生產(chǎn)工藝流程簡(jiǎn)介：
（1）芯片：為外購(gòu)的合格芯片。
（2）磨劃片：首先將藍(lán)膜貼在芯片的正面，目的是保護(hù)圓片正面的芯片防止擦傷、沾污等。接著利用全自動(dòng)磨片機(jī)對(duì)芯片的背面進(jìn)行研磨處理，使芯片厚度
達(dá)到要求。磨片后將藍(lán)膜揭除。然后在芯片的背面貼一層藍(lán)膜，目的是將芯片固定從而可以進(jìn)行劃片，并在劃片后分成每顆芯片時(shí)不會(huì)脫落，以便于下道裝片
工序。接著利用全自動(dòng)劃片機(jī)將晶片分離成單個(gè)芯片。在磨劃片過程中會(huì)產(chǎn)生熱量，因此需要用純水進(jìn)行冷卻，同時(shí)在磨劃時(shí)芯片表面會(huì)產(chǎn)生細(xì)小微粒，需要
用高純水設(shè)備產(chǎn)生高純水進(jìn)行清洗。
電子級(jí)高純水設(shè)備工藝流程：
電子級(jí)高純水設(shè)備工藝介紹：
原水→原水箱→增壓泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→阻垢劑加藥系統(tǒng)/還原劑加藥系統(tǒng)→保安過濾器→中間水箱→高壓泵1→反滲透裝置1→
中間水箱→PH調(diào)節(jié)裝置→高壓泵2→反滲透裝置2→純水箱→輸送泵→精密過濾器→EDI電除鹽系統(tǒng)→EDI高純水箱→輸送泵→拋光混床→TOC去除器→
精密過濾器→用水點(diǎn)
注：本系統(tǒng)采用反滲透+EDI處理工藝，主要有四個(gè)部分組成，預(yù)處理系統(tǒng)、二級(jí)反滲透主機(jī)系統(tǒng)、EDI電除鹽系統(tǒng)、拋光混床系統(tǒng)；
原水采用自來水通過增壓泵增壓進(jìn)入石英砂過濾器、活性炭過濾器，去除水中的懸浮物、膠體、有機(jī)物及余氯，配套有絮凝劑加藥系統(tǒng)和阻垢劑加藥系統(tǒng)，可有效降低水中渾濁度，防止反滲透膜的結(jié)垢，提高反滲透膜的使用壽命；
二級(jí)反滲透系統(tǒng)采用美國(guó)陶氏反滲透膜技術(shù)，自動(dòng)制膜技術(shù)有效保證每支膜的水處理性能。一級(jí)反滲透采用BW30-400型號(hào)的反滲透膜，該膜具有脫鹽率較高、操作壓力較小，抗污染性能，膜的脫鹽率可以達(dá)到99.7%；二級(jí)反滲透膜采用BW30-365系列膜，該膜廣泛使用二級(jí)反滲透系統(tǒng)中。二級(jí)反滲透出水水質(zhì)電導(dǎo)率可以達(dá)到4微西門子以下；
EDI電除鹽系統(tǒng)采用原裝進(jìn)口西門子模塊，EDI作為綠色脫鹽模式，具有以下優(yōu)點(diǎn)：占地面積省、運(yùn)行成本低、系統(tǒng)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單、水質(zhì)穩(wěn)定、安裝維修簡(jiǎn)便、綠色環(huán)保，不需要酸堿再生、可實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)。EDI出水電阻率可以達(dá)到15~17兆歐；
拋光混床系統(tǒng)采用上海樹脂廠和羅門哈斯合資品牌拋光核級(jí)樹脂，拋光混床作為制取超純水的核心部件，經(jīng)處理后出水可以達(dá)到18兆歐以上，滿足微電子行業(yè)用水要求；
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