工藝特點(diǎn)：

  循環(huán)壽命長，可達(dá)8-10個循環(huán)（Metal Turn Over），[循環(huán)含義為每升鍍液將全部鎳鍍出再補(bǔ)加到開缸時的鎳含量稱為一個循環(huán)，一個循環(huán)最少可沉積鍍層900dm2·μm]；

  最高鍍速可達(dá)20-25μm/h；

  鍍液裝載量大，最多可容15平方分米每升鍍液長期工作而性能穩(wěn)定

  深鍍能力強(qiáng)、均鍍能力強(qiáng)；

  硬度高、耐腐蝕能力強(qiáng)；

  鍍層孔隙率低，15μm無孔隙；

  耐磨性好，優(yōu)于電鍍鉻；

  可焊性好，能夠被焊料所潤濕

  電磁屏蔽性能好，可用于電子元件及計算機(jī)硬盤；

化學(xué)鎳鍍層的性能

  磷含量：6-9%(wt)；電阻率：60-75μΩ·cm；

  密度：7.9g/cm3；  熔點(diǎn)：860-880℃；

  硬度：鍍態(tài):Hv 500-550(45-48RCH)；結(jié)合力：400MPa遠(yuǎn)高于電鍍；熱處理后:Hv1000；

  內(nèi)應(yīng)力：鋼上內(nèi)應(yīng)力低于7MPa

使用方法
本產(chǎn)品采用國際通用的A、B、C三種溶液，以A、B開缸，根據(jù)鎳離子濃度進(jìn)行分析補(bǔ)加工作液的消耗組分，以A、C補(bǔ)加，極其方便：