用鹽溶劑處理溶體最主要的是減少氧化物和非金屬內含物的含量。溶劑或溶劑的混合物以片狀或顆粒的形式浸入到溶體中并慢慢溶解。細粒或粉末灑在熔體的表面并溶解。他們可能通過葉輪機械地攪拌進熔體中或手動攪拌進去。以類似的方式也可以引進顆粒、低共熔硅的調節劑以及最初的成核的硅到溶體中。選擇的熔劑的組成是為了適合要達到的目的，無論需要清理或是改變微觀結構；在任何情況下，這種混合物要在大概750℃左右的溫度熔化或溶解已達到最好的效果。鹽被用作與熔體精細混合，鹽也可以被用作覆蓋溶劑。不同的覆蓋溶劑用作不同的目的；干燥氧化的熔渣以便簡單的除掉；提供降低氧化作用和氫氣獲得量的阻礙；減少氫元素的燒化，如鈉，鎂；或者通過緩慢釋放來維持組分，如鈉。釋放鈉的元素在AI-Mg合金中不被使用，因為鈉對性質有害，嘗試用氯化鎂代替。我們必須清楚，這些溶劑中含有結晶水，并將吸收與空氣中的濕氣，因此他們要在干燥的條件下儲藏否則要在使用以前用250℃的溫度預加熱。含有氯化物的溶劑具有侵襲爐子襯里的缺點。它們同樣也腐蝕坩堝材料，腐蝕碳化硅的程度要比黏土石墨的程度低。

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