一、說明 真空鍍膜的設(shè)備需進行加熱才能工作，原加熱方式采用電爐盤進行間接加熱，該加熱方式為外加熱方式，存在熱傳遞效率低、散熱快、加熱速度慢，導(dǎo)致能耗高、設(shè)備環(huán)境溫度高、設(shè)備啟動時間長等缺點。 因此，我司采用渦流加熱的方式對設(shè)備進行內(nèi)加熱方式加熱，提高加熱效率，降低設(shè)備啟動時間，減小散熱，降低環(huán)境溫度，降低能耗，期望在原有的基礎(chǔ)上節(jié)電３０％以上。 二、技術(shù)要求說明 一）、基本要求 １）、電源采用三相３８０ｖ，有接地線，功率分為１５ｋｗ、１２Ｋｗ兩種。 ２）、采用模塊化設(shè)計，維修更換容易。 ３）、保護功能完善，發(fā)生故障時能顯示故障代碼，方便維修。 ４）、所有元件、配件在加熱器連續(xù)全功率運轉(zhuǎn)的情況下工作壽命≥１４０００小時。 ５）、環(huán)境溫度－２０℃～４５℃，濕度≤９５％，并能適應(yīng)一定的惡劣環(huán)境。 ６）、抗工業(yè)環(huán)境電磁，且不對其它用電設(shè)備造成電磁。 ２、基本組成部分 １）、由控制器、操作顯示臺、工作線圈組成。